producent: Zeiss, Niemcy

parametry: Powiększenie w zakresie X20 do X 20 000; zdolność rozdzielcza 4nm przy 30kV oraz 25 nm przy 1kV; dzięki obszernej komorze roboczej ze stolikiem przesuwanym w zakresie 80 mmm, można analizować próbki o stosunkowo dużych rozmiarach. Posiada trzy detektory- możliwość obserwacji w trybie SE(secondary electrons), BSE (backscattered electrons) i CL – katoluminescencja.

opis: Pozwala na badanie i analizowanie morfologii powierzchni, przełomów, zgładów badanych materiałów; umożliwia stwierdzenie obecności wydzielin, warstw, charakterystycznych obiektów morfologicznych oraz wykonanie pomiarów elementów struktury. Oprogramowanie pozwala na dokonywanie pomiarów obserwowanych obiektów bezpośrednio na ekranie oraz cyfrowy zapis dokumentacji fotograficznej